GTS-institutterne bringer ny teknologisk viden i spil i danske virksomheder

Læs mere

Danmarks teknologiske infrastruktur

Skatterometriske og Ellipsometriske målinger

Tyndfilm og strukturer med dimensioner på nanometerskala finder anvendelser i halvledere, mikroelektronikske og mikromekaniske systemer, biometriske apparater, samt optiske komponenter. Ikke-destruktiv karakterisering af sådanne strukturer er en vigtig del af kvalitetskontrollen i produktion og i udviklingen af nye produkter.

Skatterometri og ellipsometri er optiske teknikker til bestemmelse materialers egenskaber ud fra målinger af lysets refleksion samt ændringer i lysets polarisationen. Sådanne målinger giver information om materialers optiske egenskaber og tykkelse, samt dimensionerne af optiske gitre. Resultaterne opnås ved at sammenligne den målte polarisationsændring med en model af den fysiske prøve.

DFM udfører ellipsometri og skatterometriske målinger på tyndfilmsprøver og gitre:

  • Tyndfilm: Prøver med diametre fra 1” til 6” og filmtykkelser mellem 50 nm og 100 µm Eksempler på tyndfilmmaterialer inkluderer SiO2, HfO2, polymerer, Si, InP og glas. De bedste resultater opnås for prøver med store forskelle i brydningsindeks og optisk absorption.
  • Silicium gitre: Prøver med diametre fra 1” til 6”, arealer af gitre fra 1 mm2, perioder fra 300 nm til 1000 nm, højder fra 100 nm til 2000 nm.

DFMs ellipsometriske ydelser er målrettet metrologiske anvendelser via sporbarhed til SI meteren. Et gennemarbejdet usikkerhedsbudget tilbydes sammen med måleresultaterne.

De skatterometriske ydelser er målrettet industriel anvendelse og inkluderer målehastigheder ned til 10 ms. Udstyret er transportabelt, og målinger kan udføres hos kunden.

Målgruppe: Tyndfilmfabrikanter i halvlederindustrien, hurtig produktion inden for plastindustri og roll-to-roll fabrikation, samt producenter af optiske gitre til bl.a. telekomindustrien.



Læs mere



Del med dine kolleger